В ходе интервью с техническим директором AMD Марком Пейпермейстером, он сообщил, что 7 нм технология, по которой планируется изготавливать второе и третье поколение Zen, будет использоваться в течение долгого периода времени. Он сравнил эту технологию с 28 нм процессом и заявил, что это «самый трудный переход за множество поколений». Чтобы ускорить 7 нм «мы буквально удвоили наши усилия, как на предприятиях, так и в командах разработки. Это труднейший переход, который я видел за множество поколений», — заявил Пейпермейстер, сравнив его с переходом на медные соединения. Он добавил, что 7 нм технология требует новых «инструментов САПР и меняет подход к проектированию устройства и способам соединения транзисторов. Реализация и инструменты меняются так же, как и необходимая для работы IT поддержка». Директор ожидает, что заводы начнут использовать экстремальную ультрафиолетовую литографию (EUV) в 2019 году, которая позволит выпускать микросхемы с 7 нм элементами, и он настаивает, чтобы они сделали это максимально быстро.



Также смотрите: 

Похожие новости: